ひみつジャナイ基地 設計コンペ | 概要 | Deview-デビュー

Deview LOGO

お知らせ

検索の条件設定はコチラ

Deview LOGO

検索の条件設定はコチラ

2019.06.25

ひみつジャナイ基地 設計コンペ

道後アート2019・2020では、松山市道後地区の上人坂エリアに、様々な人々の集うことができる、道後のアート事業の拠点となり、その後も有効的に活用ができるような交流拠点(ひみつジャナイ基地)をつくる。

本プログラムでは、この拠点がどんな施設であるべきかを問う設計コンペを行い、地域住民・観光客・アーティスト・外国人・障がい者・お年寄りや子ども等、多様な視点から、よりみんなが使いたいと思うようなプランのアイデアを、日比野克彦氏をはじめとした審査員が選出する。

最優秀作品として採用された作品の応募者は、地元のチームとの協働により交流拠点づくりのプロセスに参画してもらう。

また、地域の風土等に触れてもらうため、上人坂エリアを中心とした道後地域の現地説明ツアーを日比野克彦氏とともに行う。

建築・デザインを学ぶ学生をはじめ、次世代を担う人たちの応募を待っている。

年齢〜29歳
性別不問
締切2019.07.15 17:00
賞・特典 最優秀作品(1点):賞金30万円
※最優秀作品の提案内容(以下「採用作品」)を基に、対象施設の実施設計および施工が行われる。実施設計・工事監理および施工者については、別に地元(愛媛県内)にて選定する。

優秀作品(2点):賞金5万円
この募集は終了しました

オススメ

×